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三星電子緊跟臺積電:修改芯片工藝路線圖 將跳過4nm工藝

據(jù)國外媒體報(bào)道,在芯片工藝方面,為蘋果等公司代工的臺積電,近幾年走在行業(yè)的前列,他們的7nm和5nm工藝都是率先投產(chǎn),良品率也相當(dāng)可觀。

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曾為蘋果代工A系列芯片的三星電子,近幾年在芯片工藝方面雖然不及臺積電,獲得的芯片代工訂單也不及臺積電,但仍是唯一能在工藝上跟上臺積電節(jié)奏的廠商。

臺積電和三星電子的芯片工藝,目前都已到了5nm,臺積電的5nm工藝是已經(jīng)大規(guī)模量產(chǎn),三星電子投資81億美元的新5nm芯片工藝生產(chǎn)線,今年也已經(jīng)開始建設(shè)。

在提升到5nm之后,三星電子也會(huì)繼續(xù)研發(fā)更先進(jìn)的芯片工藝。外媒最新援引產(chǎn)業(yè)鏈人士透露的消息報(bào)道稱,三星電子已對芯片工藝路線圖進(jìn)行了調(diào)整,將跳過4nm工藝,由5nm直接上升到3nm。

不過,外媒在報(bào)道中并未提及,跳過4nm工藝之后,三星的3nm工藝會(huì)在何時(shí)大規(guī)模量產(chǎn)。

三星電子芯片代工競爭對手臺積電的3nm工藝,是在多年前就已開始謀劃,計(jì)劃2021年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),2022年上半年大規(guī)模量產(chǎn)。在6月初的報(bào)道中,外媒稱臺積電已經(jīng)開始3nm工藝的生產(chǎn)線,早于此前的預(yù)期。

標(biāo)簽: 三星 芯片 臺積電 3nm

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