獲三星電子好評，韓國東進世美肯正計劃研發(fā)新一代極紫外光刻膠 世界快訊
2023-06-26 18:28:59|
來源：TechWeb 作者：
(資料圖)
6 月 26 日消息，在三星電子嘗試重構 EUV 光刻膠供應鏈的推動下，東進世美肯所研發(fā)的極紫外光刻膠，已在去年年底被用于他們的一條量產(chǎn)工藝線。
而相關媒體最新的報道顯示，所研發(fā)的極紫外光刻膠已進入三星電子量產(chǎn)線的東進世美肯，也在準備為下一代的極紫外光刻機，也就是高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機（high-NA EUV）研發(fā)光刻膠。
相關媒體在報道中表示，東進世美肯研發(fā)高數(shù)值孔徑極紫外光刻機投產(chǎn)后所需的光刻膠，是為了滿足阿斯麥這一類極紫外光刻機大量投產(chǎn)之后的需求。
阿斯麥高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機，是他們在推出 TWINSCAN NXE:3400C、TWINSCAN NXE:3600D 等多個型號的極紫外光刻機之后，所研發(fā)的新一代產(chǎn)品，將沿用 EXE 系列的命名，已有 TWINSCAN EXE:5000 和 TWINSCAN EXE:5200 兩個型號。
阿斯麥高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機，數(shù)值孔徑將由 0.33 增至 0.55，用于 2nm 及以下的制程工藝，首臺交由客戶用于制程工藝研發(fā)的產(chǎn)品，計劃在今年年底出貨，用于大規(guī)模生產(chǎn)的，預計 2025 年開始在客戶的工廠全面投入運營。
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